USE
可用于MEMS表征、厚膜、光学元件、半导体器件表面形貌、机械加工部件粗糙度数据测量分析以及表面质量和缺陷的检测等。
利用干涉相位差与检偏器方位角成线性关系的微分干涉显微镜，应用相移干涉技术，实现对表面轮廓进行快速、重复性高、分辨率高的测量。
Technical indicators
0.1mm-1mm；
＜0.1nm；
13.1μm；
0.05-8.45mm；
PSI-适合测量粗糙度小于160nm结构； VSI-适合测量粗糙度小于1mm结构。
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