USE
Wafer清洗、剥离等。
有机化液可以溶解光刻胶等有机物，达到清洁wafer或剥离作用。
4Inch、6Inch晶圆硅片、SiC片、蓝宝石片、玻璃片。
Technical indicators
清洗/剥离/去胶工艺；
丙酮、异丙醇、乙醇、3038显影液、三氯乙烯、TMAH、NMP等；
恒温水浴加热设备、热板加热设备、超声波清洗设备、甩干设备等。
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