真空镀膜
真空ITO镀膜
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用途

USE

典型应用

ITO光学薄膜蒸镀。

原理

高真空环境下,电子枪灯丝加热后,发射热电子,热电子受电场加速,获得很大的动能,在永磁铁或电磁铁的约束下,偏转到蒸发源表面,轰击材料并使其汽化,从而达到蒸发的目的。

支持

蒸镀时腔体支持加热和通入氧气。

技术指标

Technical indicators

  • 目前可淀积材料包括

    SiO2、ITO、TiO2;

  • 功率

    蒸发速率0.5A/s-5A/s,蒸发功率0-40%;

  • 工作真空

    1E-3Pa;

  • 温度

    20-350℃,气体(O2)。

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